在应用真空镀膜加工的全过程中，要求注意下列一些难题。
1、脉冲电镀电源与电镀槽中间的间距
为了保证脉冲电流量波型引入镀槽时不崎变，且衰减系数小，期待在安裝时，脉冲电镀电源与镀槽的间距2-3m为宜，要不然对脉冲电流量波型的后沿危害很大，电镀将不可以超过预估功效。
2、阳阴极的导线衔接方法
直流稳压电源的导线衔接方法，不宜脉冲开关电源的衔接，脉冲电镀电源的輸出衔接，期待二根导线的极间电容可以相抵导线的传送电感器效用。
因此阴、阳极氧化导线有效的方法就是双绞交叉后，引送至镀槽边，随后维持脉冲波型不会改变。
3、导线的采用
因为是脉冲开关电源，为了避免趋夫效用，在导线挑选时，应挑选多芯铜芯电缆作脉冲开关电源到镀槽的衔接线，多芯铜芯电缆绞织，期间的线电容器可以相抵其电感器效用。
真空镀膜技术的应用时较早的。真空镀膜技术在电子方面开始是用来制造电阻和电容元件，之后随着半导体技术在电机学领域中的应用，又使这一技术成为晶体管制造和集成电路生产的必要工艺手段。
真空镀膜加工原理有不同可分很多种类，因为真空镀膜加工工作环境要要求高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的真空镀膜加工，影响均匀性的因素也不尽相同。
真空镀膜表面的清洗非常重要，直接影响电镀产品的质量。在进入镀膜室之前，工件须在电镀前仔细清洗。真空镀膜技术为制造各种各样的清洁表面提供了手段。这些薄膜的制备均为科学的研究和发展提供充分的条件。
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。
