对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。
溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。
溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射)，晶向(外沿)生长的控制也比较一般。对于一些较大的插件类连接器也可不做遮蔽，浸泡后可以反复对连接器插拔几次即可正常使用。以pld为例，因素主要有：靶材与基片的晶格匹配程度、镀膜氛围(低压气体氛围)、基片温度、激光器功率、脉冲频率、溅射时间。
真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是使置待镀金属和被镀塑料制品位于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使金属蒸发或升华，金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜
在真空条件下可减少蒸发材料的原子、镀膜公司分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等）
电子书的显示屏与边框公差较大，缝隙看起来不美观，利用填充剂材料可以消除缝隙使外观更精致；电子书生产商对于工艺要求很高，成品要达到6级以上的防水，防潮，耐腐蚀等性能
相比同类型气相沉积技术有着更加稳定的防水气潮气性能，有优异的耐热耐寒性，具备RoHS、REACH认证，安全无毒不燃烧，透明无异味，有着优异的耐盐雾腐蚀能力，纳米级厚度，肉眼无法看到，如同隐形涂层
纳米镀膜主要的成分是从石英砂中提纯的纳米级别的二氧化硅,其单晶分子大小达到8-10nm,作用原理是,手机的镜面虽然在肉眼的观察下是平整的,但是实际表面是有很多分子的缝隙,我们就利用这种超微观的纳米二氧化硅来填充这些分子的缝隙从而达到提高屏幕密度硬度。即在真空状态入气，气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。可以有效提高屏幕的光滑度，提升手机屏幕画质，色彩更逼真，触控格更灵敏。无论是那种纳米手机镀膜，期主要成份都是二氧化硅。也就是液体玻璃。
