基片尺寸：4英寸；

　　加热温度：25℃~350℃；

　　温度均匀性：±1℃；

　　前体温度范围：从室温至150℃，±2℃；可选择加热套；

　　前驱体数：一次同时可处理多达 5 个 ALD 前体源；

　　PLC 控制系统：7英寸16 位彩色触摸屏控制；

　　模拟压力控制器：用于快速压力检测和脉冲监测

　　样品上载：将样品夹具从边上拉出即可；

　　压力控制装置：压力控制范围从0.1~1.5Torr

　　两个氧化剂/还原剂源，如水，氧气或氨气；

　　在样品上没有大气污染物，因为在沉积区的附近或上游处无 Elestamor O 型圈出现;

　　氧化铝催化剂处理能力：6-10 次/分钟或高达 1.2 纳米/ 分钟

　　高纵横比沉积，具有良好的共形性

　　曝光控制，用于在 3D 结构上实现所需的共形性；

　　预置有经验证过的 3D 和 2D 沉积的优化配方；

　　简单便捷的系统维护及安全联锁；

　　目前市面上占地小，可兼容各类洁净室要求的系统；

　　可以为非标准样品而订制的夹具，如 SEM / TEM 短截线

　　AT-400原子层沉积

　　http://www.first-nano.com/SonList-1441859.html

　　https://www.chem17.com/st326752/product_26329108.html