1. 常规微孔制备
常规微孔制备是利用高温和压力来形成微孔结构。根据PTFE膜表面的压纹方式和加热时间等因素的控制,可以得到不同大小的孔径,范围一般在0.2 ~ 15微米之间。这种方法制备出的PTFE膜具有较好的绝缘性、化学稳定性以及良好的过滤性能和抗粘附性,广泛应用于器械、电子信息、食品包装等领域。
2. 离子束打孔
离子束打孔是一种新型的制孔技术,它采用离子束直接轰击PTFE膜表面,形成尺寸可控的微孔结构。该技术制备聚四氟乙烯薄膜的孔径范围可以从亚微米到几微米,并且具有高加工精度、高的效率等优点,适合于制备微电子和纳米器件。