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真空电镀PVD膜层对不锈钢基材外表防腐功能的提拔是有必然协助的，但不能完全阻止基材受腐蚀。因而，基材自身的防腐功能是持久坚持PVD膜层的要害。在锌合金，铁合金，铜合金，铝合金以及其他不耐侵蚀、轻易氧化的金属上不能直接镀PVD膜层，因为上述金属基材轻易侵蚀，或外表不致密细小气孔较多，外表杂质难以清洗洁净，直接用真空电镀的办法在其外表镀制五颜六色的PVD膜层，假如不经由封油等非凡处置，膜层容易腐蚀。
上述金属要做PVD之前，普通都建议先做化学电镀铬和镍处置，使其外表更防腐，才能到达理想的结果。陶瓷和玻璃经由前处置，现阶段能用PVD工艺处置外表。不锈钢材料因为自身防腐功能优异，在不锈钢外表上电镀五颜六色的PVD膜层是比较好的选择。
一切不锈钢产物在镀前都必需清洗洁净：
不锈钢板材由于表面厚度均匀，比较容易清洗，只要去掉保护膜和表面胶水和杂质即可；此外一些板材由于放置过长，保护膜变质导致后续面胶难以清除，而影响表面清洁。
不锈钢构件的清洗和清洁比较复杂，除了明显的表面要清洗干净外，在一些焊接，折边，弯角等一些不明显缝隙处，也需要把抛光蜡，胶水，锈斑，灰尘，焊渣等杂质用清洗剂去除，不然很容易引起掉色。对要镀的不锈钢构件来说，清洗难题来自于，一些藏在不锈钢管及看不到地方里的抛光蜡，盐，松香，沙子，木头，胶水，塑料等难以清除的物质。这些物质会严重影响真空镀膜质量，导致颜色异常或掉色，因此不锈钢制作厂家在制作过程中应尽量避免上述物质隐蔽藏匿在构件中而无法清除，以免影响后续真空电镀不锈钢镀膜质量。
真空系统的基本知识
真空的定义：压力低于一个大气压的任何气态空间，采用真空度来表示真空的高低。
真空单位换算：1大气压≈1.0×105帕=760mmHg=760托
1托=133.3pa=1mmHg
1bar=100kpa
1mbar=100pa
1bar=1000mbar
TCO玻璃=Transparent Conductive Oxide 镀有透明导电氧化物的玻璃
TCO材料：
SnO2:F(FTO fluorine doped tin oxide氟掺杂yang化锡)
ZnO:Al(AZO aluminum doped zinc oxide铝掺杂氧化锌)
In2O3:Sn(ITO indium tin oxide 氧化铟锡)
TCO薄膜的制备工艺
1. 薄膜的性质是由制备工艺决定的，改进制备工艺的努力方向是使制成的薄膜电阻率低、透射率高且表面形貌好，薄膜生长温度低，与基板附着性好，能大面积均匀制膜且制膜成本低。
2.主要生产工艺：镀膜过程中有气压、基片温度、靶材功率、镀膜速度；刻蚀过程中有HCl浓度、刻蚀速度、刻蚀温度。
真空蒸镀又称热蒸发蒸镀法
工艺关键词:高温溶解蒸发、沉积后覆膜
依薄膜材料之加热方式之不同，真空蒸镀又可分为间接加热型与直接加热型。
1. 间接加热型:只针对蒸发源加热，间接使其上之薄膜材料因热而蒸发;
2. 直接加热型:利用高能粒子(电子束，电浆或镭射)或高频，直接使置于蒸发源上之薄膜材料升温而蒸发;
为避免蒸发源(容器)随着薄膜材料一同被蒸发，蒸发源材质的熔点一定要高于薄膜材料的沸点。
真空电镀工艺主要是通过加热器把膜材蒸发、蒸发的膜材原子或分子迁移吸附到基体表面的成膜工艺，因此根据膜材的种类不同大体可分为金属膜的真空电镀、合金膜的真空电镀及化合物的真空电镀这三大类。
从这一原理图中不难看出，真空电镀工艺过程是由膜材在蒸发源表面上的蒸发、蒸发后的粒子（主要是原子）在气相中的迁移、到达基片表面上通过吸附作用在基片表面上凝结生成薄膜等三个过程所组成。这种工艺过程创造一个良好成膜条件是十分必要的。
